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전상범 (순천향대학교) 김욱형 (순천향대학교) 김국원 (순천향대학교) 김남웅 (동양미래대학)
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한국생산제조학회 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 한국생산제조시스템학회 2011 춘계학술대회 논문집
발행연도
2011.4
수록면
595 - 596 (2page)

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Nanoimprint Lithography (NIL) is one fo the most versatile and promising technology for micro/nano-patternming due to its simplicity, high throughput and low cost, Recently, one of the major trends of NIL is large-area patterning. Generally it is expected that NIL achieves productivity improvement by decrease of tact t ... 전체 초록 보기
#Nanoimprint Lithography #Large Area #Residual Layer Uniformity

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