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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이우영 (한국기술교육대학교 기계공학부) 이기연 (순천향대학교 공과대학 기계공학과) 김국원 (순천향대학교 공과대학 기계공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제12권 제4호
발행연도
2013.1
수록면
15 - 20 (6page)

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Nanoimprint lithography (NIL) is the next generation photolithography process in which the photoresist is dispensed onto the substrate in its liquid form and then imprinted and cured into a desired pattern instead of using traditional optical system. There have been considerable attentions on NIL due to its potential abilities that enable cost-effective and high-throughput nanofabrication to the display device and semiconductor industry. In this paper, a pressure vessel type imprinting system was used to imprint patterns with two type pressure values (25 bar, 30 bar) and two type pressure keeping times (5 min, 10 min). The height of transferred pattern and the thickness of residual layer were measured and effects of pressurization conditions - pressure and pressure keeping time - on the pattern transfer in thermal NIL were investigated.
#Pressurization conditions #Residual layer thickness #Thermal nanoimprint lithography #Transferred pattern

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