열-나노임프린트 리소그래피 공정에서의 폴리머 유동에 대한 해석적 접근

김국원; 김남웅

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김국원 김남웅

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.17 No.3

발행연도: 2008.6

수록면: 20 - 26 (7page)

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Nanoimprint lithography(NIL) is becoming next generation lithography of significant interest due to its low cost and a potential patterning resolution of 10nm or less. Success of the NIL relies on the adequate conditions of pressure, temperature and time. To have the adequate conditions for NIL, one has to understand the polymer flowing behavior during the imprinting process. In this paper, an anlytical approach of polymer flow in thermal NIL was performed based on the squeeze flow with partial slip boundary conditions. Velocity profiles and pressure distributions of the ploymer flow were obtained and imprinting forces and residual thickness were predicted with the consideration of the slip velocity between the polymer and the mold/substrate. The results show that the consideration of the slip is very important for investigating the polymer flow in Thermal NIL.

#Thermal nanoimprint lithography(열-나노임프린트 리소그래피) #Ploymer flow(폴리머 유동) #Squeeze flow(스퀴즈 유동 미끄러짐 속도 ) #Slip velocity(미끄러짐 속도)

참고문헌 (9)

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1. [학술지(정기간행물)] - Chou S. / 1997 / Imprint lithography with sub-10nm feature size and high throughput / Microelectronic Engineering 35 : 237 ~ 240

2. [학술지(정기간행물)] - Guo L. J. / 2004 / Recent progess in nanoimprint technology and its applications / Journal of Physics D: Applied Physics 37 : R123 ~ R141

3. [학술지(정기간행물)] - Lee K. / 2007 / Dynamic Analysis of a Nano Imprinting Stage Using CAE / Korean Society of Machine Tool Engineers 16 : 211 ~ 217

4. [학술지(정기간행물)] - Hirai Y. / 2001 / Study of the resist deformation in nanoimprint lithography / Journal of Vacuum Science and Technology B 19 (6) : 2811 ~ 2815

5. [학술지(정기간행물)] - Hirai Y. / 2004 / Simulation and experimental study of polymer deformation in nanoimprint lithography / Journal of Vacuum Science and Technology B 22 (6) : 3288 ~ 3293

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