Infinite selective dry etching of ITO binary mask structures for extreme ultraviolet lithography (EUVL) using inductively coupled plasmas (ICP)

Y. R. Pa ,  k ,  C. R. Chang 외 8명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Evaluation of Mask Topological Effects for Alternating PSM

Kyung Il Lee ,  Seung Gol Lee ,  Jong Ung Lee

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas

강동진 ,  이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

ICP ETCHING OF TUNGSTEN FOR X-RAY MASKS

C. Jeong ,  K. Song ,  C. Pa 외 4명

한국표면공학회지

1996 .12

Modeling and Simulation of Line Edge Roughness for EUV Resists

Sang-Kon Kim

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2014 .02

Focused Ion Beam을 이용한 EUVL Mask Defect Isolation 및 Repair

김석구 ,  백운규 ,  박재근

반도체및디스플레이장비학회지

2004 .01

LCD Process 최적 PSM Type 선정에 관한 연구

이민우 ,  강민

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2015 .05

ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석

고석철 ,  한병성 ,  최효상 외 2명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성

한윤봉 ,  최창선 ,  임연호 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

PSM 시행효과 분석에 따른 향후 개선방안

권혁면

기술사

1999 .01

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

기판의 왕복 운동을 이용한 인라인 식각세정장치 내 ITO 식각특성

홍성재 ,  권상직 ,  조의식

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask

D. Y. Kim ,  J. H. Ko ,  M. S. Pa 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

Measuring Odd Component of Aberration Function Utilizing Alternating PSM

Shuji Nakao ,  Junji Miyazaki ,  Kouichi 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07