지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
The Dry Etching Properties of TaN Thin Film Using Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2012 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2013 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성 연구
한국표면공학회지
2009 .12
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석
전기전자재료학회논문지
2004 .01
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
Dry Etching Properties of TiO2 Thin Film Using Inductively Coupled Plasma for Resistive Random Access Memory Application
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2012 .01
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
BCl3/Ar 유도결합 플라즈마 안에 CH4 가스 첨가에 따른 건식 식각된 TaN 박막 표면의 연구
전기전자재료학회논문지
2013 .01
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
XPS Analysis of Oxide Etch Polymer in Inductively Coupled High Density Plasmas
Fabrication and Characterization of Advanced Materials
1995 .01
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구
한국표면공학회지
2008 .10
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
Antenna structure를 이용한 MIS(TaN/HfO₂/Si) capacitor의 plasma damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2006 .06
Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
ICP 스퍼터링으로 제조한 초경 TaN 박막에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .11
Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
0