E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

HfO₂-Si의 조성비에 따른 HfSiO_x의 IZO 기반 산화물 반도체에 대한 연구

조동규 ,  이문석

전자공학회논문지

2013 .02

Si기판위에서 CVD를 이용한 gate dielectric 용 HfO$_2$ 박막의 증착과 분석

박병건 ,  박재후 ,  조문주 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

HfO₂/Hf/Si MOS 구조에서 나타나는 HfO₂박막의 물성 및 전기적 특성

배군호 ,  도승우 ,  이재성 외 1명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

Surface Reaction of TaN Metal Gate Etching by using Inductively Coupled Plasma

Doo Seung Um ,  Dong Pyo Kim ,  Gwan Ha Kim 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ALD 방법으로 Si(100) 기판에 증착한 $HfO_2$ 게이트 유전박막의 특성

김좌연 ,  이희환 ,  채상훈 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성 연구

엄두승 ,  김승한 ,  우종창 외 1명

한국표면공학회지

2009 .12

New HFO-Based Option(HFO기반의 다양한 냉매 옵션)

윤린

설비저널

2011 .04

Gate 박막용 $HfO_2$ 박막의 증착과 분석

박재후 ,  박병건 ,  조문주 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

습식식각을 이용한 HfO₂ 박막의 식각특성

양정열 ,  황택성 ,  곽노석 외 2명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

비휘발성 메모리 응용을 위한 ALD법을 이용한 HfO₂ 절연막의 특성

정순원 ,  구경완

전기학회논문지

2010 .08

The Dry Etching Properties of TaN Thin Film Using Inductively Coupled Plasma

우종창 ,  김창일 ,  Young-Hee Joo

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

High-k 유전박막 MIS 커패시터의 플라즈마 etching damage에 대한 연구

양승국 ,  송호영 ,  오범환 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2003 .07

ALD법으로 성장한 HfO 박막의 열처리에 따른 특성변화

이재웅 ,  함문호 ,  맹완주 외 2명

한국재료학회지

2007 .01

HfO₂ MIM capacitor의 하부 금속에 따른 전기적 특성 변화

도승우 ,  배군호 ,  이재성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

HfO₂ MIM capacitor의 하부 금속에 따른 전기적 특성 변화

도승우 ,  배군호 ,  이재성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성

진려 ,  주영희 ,  우종창 외 3명

전기전자재료학회논문지

2013 .01

Gate 산화막으로 $HfO_2$ 박막을 이용하여 제작한 NFET 특성 고찰

박재후 ,  조문주 ,  박홍배 외 4명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2003 .01