나노임프린트 리소그래피 공정에서의 폴리머 변형 해석

손지원; 오수익

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 손지원 오수익

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 창립 60주년 기념 추계학술대회 강연 및 논문 초록집

발행연도: 2005.11

수록면: 2,637 - 2,642 (6page)

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Numerical simulations are carried out to understand the deformation process of thin polymer (PMMA) film in nanoimprint lithography. Deformation of a thin polymer above its glass transition temperature is studied for various imprinting conditions such as the aspect ratios of a mold pattern, and imprinting velocity. And, the difference of the thermal expansion coefficients between the mold and the substrate causes strain, and relationship between the strain concentration and defects in the pattern is studied.

#nanoimptint lithography(나노임프린트 리소그래피) #surface tension(표면 장력) #dynamic contact angle(동적 접촉각) #slip length #PMMA

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오수익

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