Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency

김태형 ,  김경남 ,  이승민 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Fault Detection of Plasma Etchers using Big Data Analysis

Wei Qin ,  Jungang Yang ,  Jie Zhang

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2014 .09

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성

김미숙 ,  정창현 ,  임종태 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher

강창진 ,  최창원 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성

라상호 ,  박세근 ,  오범환

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

Cutoff Probe를 이용한 자화유도결합 플라즈마의 특성 연구

손의정 ,  김동현 ,  이호준

전기학회논문지

2016 .10

($Ar+N_2$)분위기 중에 제작된 Fe-B-Si-N 합금 박막의 연자기적 성질

박지종 ,  김종오

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구

김경현 ,  김관용 ,  이효창 외 1명

KEPCO Journal on electric power and energy

2015 .01

Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source

Jin. Seock. Seo ,  Kyung ,  Jun 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Effect of Process Parameters on Plasma Equipment in a Cl₂ Inductively Coupled Plasma

Sang Hee Kwon ,  Byung Whan Kim

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Aspect Ratio 변화에 따른 Plasma Uniformity 변화

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .10

축방향 자기장의 주기적 단속을 이용한 유도결합형 플라즈마 식각장비의 고품위 플라즈마 형성

정재성 ,  김철식 ,  김철호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

축방향 자기장의 주기적 단속을 이용한 유도결합형 플라즈마 식각장비의 고품위 플라즈마 형성 ( The Generation of Uniform High Density Plasma of Inductively Coupled Plasma Etcher Enhanced by Alternating Axial Magnetic Field )

정재성 ,  김철식 ,  김철호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .11