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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.11
- 수록면
- 453 - 458 (6page)
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SiOC 박막을 BTMSM과 산소의 혼합가스를 사용하여 CVD 방법으로 증착하였다. 박막의 특성은 가스 유량비에 따라서 변하였다. 유전상수는 MIS 구조를 이용하여 C-V 측정법에 의하여 얻었다. 결합의 말단을 구성하는 Si-CH₃ 결합 사이의 공간효과에 의해서 기공이 만들어지며, 기공의 형성에 의해서 박막의 두께가 증가하였다. 그러나 분극의 감소에 의해서 만들어지는 SiOC 박막은 두께가 감소하면서 유전상수도 감소되었다. 열처리 후 유전상수는 수산기의 기화에 의해서 감소되었다. 박막의 두께는 분극의 감소에 의한 유전상수의 감소와 연관이 있었다. 굴절률은 박막의 두께에 반비례하는 경향성이 있으며, 박막의 두께와 굴절률의 경향성은 열처리 후에도 변하지 않았다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌
참고문헌 (12)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - A. Grill / 2001 / / Diamond and Related Materials 10 : 234 ~
2. [학술지(정기간행물)] - A. Grill / 2003 / / J. Appl. Phys 94 : 6697 ~
3. [학술지(정기간행물)] - Saravanapriyan Sriraman / 2002 / / IEEE TRANSACTION ON PLASMA SCIENCE 30 : 112 ~
4. [학술지(정기간행물)] - 오데레사 / 2006 / / 전자공학회논문지 - SD 43 : 322 ~
5. [학술지(정기간행물)] - Doo Sik Kim / 2002 / / IEEE TRANSACTION ON PLASMA SCIENCE 30 : 126 ~
2. [학술지(정기간행물)] - A. Grill / 2003 / / J. Appl. Phys 94 : 6697 ~
3. [학술지(정기간행물)] - Saravanapriyan Sriraman / 2002 / / IEEE TRANSACTION ON PLASMA SCIENCE 30 : 112 ~
4. [학술지(정기간행물)] - 오데레사 / 2006 / / 전자공학회논문지 - SD 43 : 322 ~
5. [학술지(정기간행물)] - Doo Sik Kim / 2002 / / IEEE TRANSACTION ON PLASMA SCIENCE 30 : 126 ~
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