굴절률에 의한 유전상수와 전자에 의한 분극에 대한 상관성

오데레사

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자료유형: 학술저널

저자정보: 오데레사

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제1호

발행연도: 2009.1

수록면: 24 - 29 (6page)

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층간 절연막으로 사용 가능한 SiOC 박막에 대하여 유전상수가 낮아지는 원인을 이온에 의한 분극과 전자에 의한 분극에 대하여 측정하였다. MIS 구조를 이용하여 전형적인 C-V 측적법에 의하여 유전상수를 구하였으며, 굴절률을 측정하여 전자에 의한 분극의 효과에 의한 유전상수를 측정하고 서로 비교하였다. SiOC 박막의 화학적인 특성은 FTIR 분석을 이용하였으며, FTIR 분석에서 디컨벌류션한 데이터는 탄소의 함량에 대한 변화를 구하였다. 탄소의 함량변화는 굴절률의 변화와 비슷한 경향성을 나타내었으나, 유전상수와는 반비례하였다. 전자에 의한 분극의 효과는 유전상수가 떨어지는 것에 큰 영향을 주지는 않았으며, 이온에 의한 분극의 효과가 SiOC 박막의유전상수를 낮게 하는 효과가 더욱 크게 나타났다.

#SiOC 박막 #유전상수 #분극 #굴절률 #탄소함량 #SiOC film #Dielectric constant #Polarization #Reflective index #Carbon content

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1. [학술지(정기간행물)] - J. K. Choi / 2000 / / Surface and Coatings Technology 131 : 136 ~

2. [학술지(정기간행물)] - J. Kim / 2003 / / Surface and Coatings Technology 171 : 39 ~

3. [학술지(정기간행물)] - A. Grill / 2003 / / J. of Applied Physics 93

4. [학술지(정기간행물)] - M. J. Kellicutt / 1993 / / Physical Review B 47 (20)

5. [학술지(정기간행물)] - J. Kim / 2003 / / Surface and Coatings Technology 171 : 39 ~

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