Interfaces properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Chang Young Kim; Heang Seuk Lee; Jong Kwan Woo; Chi Kyu Choi

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저자정보: Chang Young Kim (제주대학교) Heang Seuk Lee (제주대학교) Jong Kwan Woo (제주대학교) Chi Kyu Choi (제주대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제37회 하계정기학술대회 프로그램집

발행연도: 2009.8

수록면: 219 - 219 (1page)

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2009

Interfaces properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Chang Young Kim , Heang Seuk Lee , Jong Kwan Woo 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2009.08 학술대회자료

2008

Electrical properties of u/TaN/SiOC(-H)/p-Si(100) low- k dielectric stack

Chang Young Kim , R. Navamathavan , Heang Seuk Lee 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2008.08 학술대회자료

Structural and electronic properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by using PECVD from DMDMS/O₂ precursors

Chang Young Kim , An Soo Jung , R. Navamathavan 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2008.02 학술대회자료

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Chang Young Kim

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