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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
참고 문헌
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2020 .07
Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source
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Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma
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1999 .10
자화된 유도 결합 열 플라즈마의 특성 연구
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1993 .04
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2016 .10
Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency
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2014 .05
자화주파수에 따른 플라즈마 및 산화막식각특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas
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1999 .10
Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성
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2005 .11
Surface Modification Cr Plated SS316L by Inductively Coupled Plasma Nitriding
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2008 .06
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
자화된 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다이아몬드성 탄소박막 증착
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1995 .11
유도 결합 플라즈마를 이용한 Plasma Enhanced PVD 공정의 수치 해석
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2019 .11
Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
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2013 .11
유체시뮬레이션을 통한 Ar/CF₄ 자화유도결합 플라즈마의 특성 연구
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2015 .04
컷오프 탐침법을 이용한 자화유도결합 플라즈마 특성 연구
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2016 .07
컷오프 탐침법을 이용한 자화유도결합 플라즈마 특성 연구
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2016 .10
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