산화 증배 확산을 고려한 3차원 불순물 확산에 관한 연구 ( A Study on the Three-Dimensional Impurity Diffusion During the Thermal Oxidation )

이승철 ,  권오근 ,  이준하 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

고농도 불순물 확산 공정을 위한 3차원 시뮬레이션에 관한 연구 ( A Study on the Three-Dimensional Simulation for High Concentration Impurity Diffusion Process )

이준하 ,  변기량 ,  황호정

전자공학회논문지-A

1996 .08

실리콘내 불순물 확산 공정에 관한 유한요소 해석 ( Finite Element Analysis of Impurity Diffusion in Silicon )

권오근 ,  박화식 ,  송영진 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

실리콘내 불순물 확산 공정에 관한 유한요소 해석

권오근 ,  박화식 ,  송영진 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

BEM을 이용하여 열산화를 고려한 실리콘 내에서 불순물의 2차원 재분포에 관한 연구

김훈 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

BEM을 이용하여 열산화를 고려한 실리콘 내에서 불순물의 2차원 재분포에 관한 연구 ( Two-Dimensional Redistribution of Impurity Considering Thermal Oxidation in Silicon Using BEM )

김훈 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

스트레스 효과를 고려한 3차원 산화 시뮬레이션 ( Three-Dimensional Simulation of Thermal Oxidation with Stress Effect )

이제희 ,  윤상호 ,  원태영

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

스트레스 효과를 고려한 3차원 산화 시뮬레이션

이제희 ,  윤상호 ,  원태영

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

SPIN-ON SOURCE에 의한 실리콘內의 불순물 확산

金忠基 ,  鄭泰源

전기의세계

1978 .12

고농도 불순물 확산 공정을 위한 3차원 시뮬레이션

권오근 ,  이규성 ,  이준하 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

실리콘에서의 2차원적 불순물의 분포의 산출 ( Characterization of Two-Dimensional Impurity Profile in Silicon )

양영일 ,  경종민

전자공학회논문지

1986 .11

3 차원 산화 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-dimensional Thermal Oxidation Simulator )

이제희 ,  윤상호 ,  원태영

전자공학회논문지-D

1997 .02

Modeling of Three-Dimensional Thermal Oxidation

이준하 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

과도 증속 확산(TED)을 고려한 3차원 확산 시뮬레이터 개발

이제희 ,  원태영

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

과도 증속 확산 ( TED ) 을 고려한 3차원 확산 시뮬레이터 개발 ( The Development of Three-Dimensional Diffusion Simulator for Transient Enhanced Diffusion )

이제희 ,  원태영

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

경계요소법을 이용한 실리콘 내에서 2차원 불순물 분포의 산출 ( A Production of Two-dimensional impurity using Boundary Element Method in Silicon )

김찬규 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

경계요소법을 이용한 실리콘 내에서 2차원 불순물 분포의 산출

김찬규 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

불순물 농도에 따라 산화막 성장률의 차이를 이용한 자기 정렬된 금속 게이트 CMOS 구조 ( A Self-Aligned Metal Gate COMS Structure Utilizing The Oxidation Rate Variation on The Impurity Concentration )

최진호 ,  고요환 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1988 .01

Rapid Thermal Annealing for the Thermal Oxidation and the Activation of implanted Impurities

Kazushige Ayukawa ,  Katsufusa Ayukawa

대한전자공학회 세미나

1992 .01

유한요소법을 사용한 3차원 열산화 공정 시뮬레이션에 관한 연구 ( Three-Dimensional Thermal Oxidation by Finite Element Method )

윤상호 ,  이제희 ,  원태영 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01