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불순물 농도에 따른 산화막 성장률의 차이를 이용한 자기 정렬된 금속 게이트 MOSFET 구조
전기학회논문지
1987 .07
불순물 농도에 따른 산화막 성장률의 차이를 이용한 새로운 Self-Aligned Metal Gate MOSFET의 제작 ( Fabrication of a New Self-Aligned Metal Gate MOSFET Utilizing the Enhanced Oxidation Rate of heavily Doped Source/Drain Region )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
SiC CMOS 게이트 산화막에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
산화 분위기에 따른 게이트 산화막의 전기적 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
산화 분위기에 따른 게이트 산화막의 전기적 특성 분석 ( An Analysis of Electrical Characteristics of Gate Oxides by Oxidation Ambience )
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
산화 증배 확산을 고려한 3차원 불순물 확산에 관한 연구 ( A Study on the Three-Dimensional Impurity Diffusion During the Thermal Oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
산화 증배 확산을 고려한 3차원 불순물 확산에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
실리콘 게이트 CMOS 의 제조 및 측정(Ⅱ)
대한전자공학회 학술대회
1983 .11
실리콘 게이트 CMOS 의 제조 및 측정(Ⅰ)
대한전자공학회 학술대회
1983 .11
$UV/O_3$과 HF 세정이 금속불순물 제거와 gate 산화막 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
CMOS 게이트의 지연시간 예측 모델 ( CMOS Gate Delay Modeling Using Spice )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
고밀도 CMOS게이트 어레이와 그 특성
전자진흥
1983 .01
CMOS SCALING AND GATE STACK TECHNOLOGY PROGRESS
한국재료학회 학술발표대회
2008 .01
박막 게이트 산화막에 대한 Ru-Zr 금속 게이트의 신뢰성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2004 .04
CMOS 게이트의 지연시간 예측 모델
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
이중 일함수 게이트 구조를 갖는 CMOS 소자의 전기적 특성
대한전자공학회 학술대회
2006 .11
디지털 시스템설계를 위한 CMOS 인버터게이트 셀의 지연시간
한국산업정보학회 학술대회논문집
2002 .06
실리콘 게이트 n-well CMOS 소자의 제작 , 측정 및 평가 ( Fabrication , Measurement and Evaluation of Silicon-Gate n-well CMOS Devices )
전자공학회지
1984 .09
BEM을 이용하여 열산화를 고려한 실리콘 내에서 불순물의 2차원 재분포에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1988 .07
BEM을 이용하여 열산화를 고려한 실리콘 내에서 불순물의 2차원 재분포에 관한 연구 ( Two-Dimensional Redistribution of Impurity Considering Thermal Oxidation in Silicon Using BEM )
대한전자공학회 학술대회
1988 .07
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