텅스텐 실리사이드막 식각시 발생되는 Microloading Effect Microloading Effect in Tungsten Silicide Etching

전범진; 이호석; 이동덕; 설여송

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 전범진 이호석 이동덕 설여송

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 (한국반도체 대한전자공학회 학술대회 논문집) 제5권

발행연도: 1998.1

수록면: 289 - 290 (2page)

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논문수 1 이용수 33

설여송

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