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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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석영 기판 위에서 텅스텐 실리사이드 게이트 전극 형성에 관한 연구
한국재료학회지
1998 .01
급속 열처리 방식에 의한 Ti-실리사이드의 형성 연구 ( Formation of Ti-silicides by Rapid Thermal Annealing )
전자공학회논문지-A
1996 .08
계면활성제에 따른 용액중 텅스텐 입자의 거동
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
GaAs위에 증착된 텅스텐의 열처리 특성 ( Effects of Annealing on the Characteristics of Tungsten Deposited on GaAs )
한국통신학회 학술대회논문집
1987 .01
GaAs위에 증착된 텅스텐의 열처리 특성 ( Effects of Annealing on the Characteristics of Tungsten Deposited on GaAs )
특정연구 결과 발표회 논문집
1987 .01
금속-산화막-반도체 소자에서 대체 게이트 금속인 텅스텐 실리사이드의 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
텅스텐 실리사이드를 차세대 게이트 전극으로 이용한 MOS 소자의 특성 분석 ( Characterisitics of Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Devices with Tungsten Silicide for Alternate Gate Metal )
전자공학회논문지-SD
2001 .07
의료 방사선사용에 따른 납과 텅스텐의 차폐효과 분석
한국방사선학회 논문지
2018 .01
Cu와 Co 및 Co/내화금속 이중층 실리사이드 계면의 열적 안정성
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
텅스텐 실리사이드막 식각시 발생되는 Microloading Effect Microloading Effect in Tungsten Silicide Etching
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
급속 열처리 장치에 의한 코발트 실리사이드 형성과 성장에 관한 연구 ( A Study on the Formation and Growth of Cobalt Silicide by Rapid Thermal Processor )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
니켈실리사이드의 색차분석
한국표면공학회지
2005 .02
니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구
한국재료학회지
2007 .01
Properties of Co-silicide prepared by rapid thermal annealing
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
코발트/니켈 복합실리사이드의 실리사이드온도에 따른 면저항과 미세구조 변화
한국재료학회지
2004 .01
다결정 실리콘 기판 위에 형성된 나노급 니켈 코발트 복합살리사이드의 미세구조 분석
한국산학기술학회 논문지
2007 .04
급속 열처리 장치를 이용한 타이타늄 실리사이드 형성 ( Formation of Titanium Silicide by Rapid Thermal Aneal System )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
Tungsten silicide 의 이상산화
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
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