플라즈마 에칭으로 손상된 4H-실리콘 카바이드 기판위에 제작된MOS 커패시터의 전기적 특성

이상권 ,  구상모 ,  조남규 외 1명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

수치해석 방법에 의한 2차원적 MOS Transistors의 시뮬레이션에 관한 연구 ( Two-Dimensional Simulation of MOS Transistors Using Numerical Method )

정태성 ,  경종민

전자공학회지

1985 .09

Circuit Elements using Mos Transistors

김충기

대한전자공학회 단기강좌

1982 .01

MOS-Field Effect Transistor의 2차원적인 수학적 모델에 관한 연구 ( A Study on Two-Dimensional Mathematical Model of MOS-Field Effect Transistor )

오응기 ,  김홍배 ,  곽계달

대한전자공학회 학술대회

1983 .01

MOS Transistor를 이용한 차동증폭기 ( MOS Transistor Differential Amplifier )

이병선

전자공학회지

1968 .02

Submicron MOS Transistor 에서 Hot-Carrier에 의한 열화현상의 연구 ( Hot-Carrier Induced Degradation in Submicron MOS Transistor )

최병진 ,  강광남

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Study on the n+ etching process in TFT-LCD Fabrication for Mo/Al/Mo Data Line

Choe ,  Hee-Hwan ,  Kim 외 3명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

Plasma Etch Damage가 (100) SOI에 미치는 영향의 C-V 특성 분석

조영득 ,  김지홍 ,  조대형 외 4명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

A Design of an Optimal Mixture Circuit Using Neuron MOS Transistor and CMOS Transistor

M.Inui ,  H.A ,  aki 외 3명

ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications

2003 .07

게이트 물질을 달리한 MOS소자의 플라즈마 피해에 대한 신뢰도 특성 분석

윤재석

한국정보통신학회논문지

2000 .06

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

CHARGE PUMPING METHODS TO MEASURE INTERFACE STATES IN MOS TRANSISTORS

Claude M. Penchina

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application

Chang-ho Ra ,  Li Huamin ,  Yoo won jong 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Surface modification of MoS₂ by O₂ plasma treatment

Yujin Jang ,  Jang Hee Yoon

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2020 .06

Cr-Mo , C-Mo강의 경년재질열화 평가에 관한 연구

김현근 ,  김정기 ,  윤재영 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

1991 .01