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Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
한국재료학회 학술발표대회
2010 .01
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Plasma and Reactive Ion Etching
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
다층 RIE Electodes를 이용한 아크릴의 $O_2/N_2$ Plasma Etching
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Etching Effect of Solution Plasma on Gold Nanoparticles
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
Understanding of my etching of polycarbonate based on $O_2$ plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
실험계획법에 의한 $CF_4/O_2$ 플라즈마 에칭공정의 최적화에 관한 연구
반도체및디스플레이장비학회지
2009 .01
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
Dependence of cation ratio in Oxynitride Glasses on the plasma etching rate
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
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