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이용수
요약
ABSTRACT
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌
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동작속도가 빠른 Mo2N/Mo 게이트 MOS 집적회로 ( High Speed Mo2N/Mo-Gate MOS Integrated Circuit )
전자공학회지
1985 .07
플라즈마 식각 공정이 N2O 산화막과 순수한 산화막을 갖는 MOS 소자 특성에 미치는 영향에 관한 연구 ( A Study on the Effect of Plasma Etching Process on the Characteristics of MOS Devices with N2O and Pure Gate Oxides )
전자공학회논문지-A
1996 .09
자기 정렬된 Mo2N/Mo 게이트 MOSFET의 제조 및 특성 ( Fabrication of Self-Aligned Mo2N/Mo-Gate MOSFET and Its Characteristics )
전자공학회지
1984 .11
자기 정렬된 Mo2N / Mo 게이트 MOSFET의 제조 및 특성 ( Fabrication of Self-Aligned Mo2N / Mo-Gate MOSFET and Its Characteristics )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
MOS 구조의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1986 .07
MOS 게이트 검증을 위한 대수적 접근 방법 ( An algebraic approach for the evaluation of MOS gates )
전자공학회논문지-A
1993 .04
PMOS에 적합한 Mo 전극의 전기적 화학적 안정성
전자공학회논문지-SD
2004 .04
D MOS , V MOS tr. 등 특수구조를 갖는 MOS소자의 설계
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
MOS 소자의 특성에 어닐링 방법이 미치는 영향 ( Effects of Annealing Method in MOS Devices Properties )
대한전자공학회 학술대회
1987 .05
Study on the n+ etching process in TFT-LCD Fabrication for Mo/Al/Mo Data Line
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2004 .01
Characterization and Design Consideration of I-MOS Devices
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2006 .07
MOS Processing
대한전자공학회 단기강좌
1982 .01
MOS 영상 소자의 출력 회로 분석 ( Analysis of Output Circuits of the MOS Image Sensor )
대한전자공학회 학술대회
1988 .11
텅스텐 실리사이드를 차세대 게이트 전극으로 이용한 MOS 소자의 특성 분석 ( Characterisitics of Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Devices with Tungsten Silicide for Alternate Gate Metal )
전자공학회논문지-SD
2001 .07
384X485개의 화소를 가지는 MOS 영상 감지소자 ( A MOS Image Sensor with 384X485 Pixels )
전자공학회논문지
1988 .11
ZrO2 게이트 절연막 위에 증착된 Mo 게이트 전극의 특성
전기전자재료학회논문지
2005 .01
PLASMA ETCHING DAMAGE에 의한 MOS TRANSISTOR 열화현상
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
Submicron MOS Devices
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
Surface modification of MoS₂ by O₂ plasma treatment
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2020 .06
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