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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론
참고문헌
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기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
화학 증착법에 의한 텅스텐 박막 ( CVD-W )
전자공학회지
1988 .08
통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )
전자공학회논문지-A
1993 .12
Microwave Plasma CVD로 제조한 다이아몬드 박막의Morphology에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
The Substrate Dependence of Morphology of Morphology of a-SI : H Deposited with Plasma CVD Method by Monte Carlo Simulation
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
1995 .01
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
On Color Morphology
Journal of Electrical Engineering and information Science
1998 .08
TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1993 .02
CVD법에 의해 성막된 구리의 표면 형상 및 충진 특성에 관한 연구
화학공학
2005 .01
CVD에 의한 SnO₂ Film 제조시 증착조건이 Film의 증착속도 및 물리적 성질에 미치는 영향
한국표면공학회지
1985 .09
접합층을 이용한 선택 텅스텐 화학기상증착 공정연구 ( A Study of Selective W-CVD Process Using the Glue Layer )
전자공학회논문지-A
1992 .12
CVD 텅스텐의 부착 및 누설전류 특성에 미치는 플라즈마 전처리의 효과
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
레이저 CVD 텅스텐막 증착을 통한 TFT LCD 불량배선 수리
전기전자재료학회논문지
2004 .01
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