$O_{3}$/TEOS를 이용한 후막 Si$O_{2}$의 성장 특성

이우형 ,  김현수 ,  유지범

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Fe₃O₄ 박막의 증착 속도에 따른 광학적 특성 변화

정지윤 ,  김윤재 ,  정윤교 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2015 .04

500 PS급 선박 SCR 반응기에서 디퓨저 각도와 면적비에 따른 유동균일도 수치해석

성홍석 ,  박인성 ,  장현 외 4명

한국생산제조학회지

2015 .08

COMPUTER SIMULATION STUDY ON APCVD PROCESS FOR AMORPHOUS SiC THIN FILM ON THE SILICON WAFER

Joon Ho Koh ,  Seong Ihl Woo

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

화학증착 챔버 형상이 성능에 미치는 영향

박경우 ,  권정태 ,  박상린 외 3명

대한기계학회 춘추학술대회

2010 .11

$O_3/HMDS$ APCVD를 이용한 후막 $SiO_2$ 성장특성연구

최진경 ,  이우형 ,  유지범

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

대구경 회전 증착에 관한 CVD 반응기 내부의 열물질 해석연구

이성봉 ,  장혁 ,  김광선 외 1명

대한설비공학회 학술발표대회논문집

2000 .06

회전식 화학증착 장치 내부의 유동해석을 통한 최적 유량 평가

곽호상

한국전산유체공학회지

2012 .03

The Effects of Sandwich-like Catalyst Thickness on the Vertical Growth of Carbon Nanotubes Using APCVD

Hyeong Keun Kim ,  Chee Sung Lee ,  Jae Boong Choi 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

SCR 반응기에서 면적비에 따른 유동균일도에 관한 연구

박인성 ,  이중섭 ,  서정세 외 2명

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .12

분지관에서의 유동 균일도에 대한 수치적 연구

김진수 ,  이상헌 ,  최훈기 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2015 .12

수직 원통형 CVD 반응로에서 박막의 균일성과 증착률 최적화에 대한 수치해석적 연구

김종희 ,  김홍제 ,  오성모 외 2명

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2002 .08

차량용 연료전지 스택의 안정적 반응 가스 공급을 위한 중앙 유동 분배기 형상 설계에 관한 수치적 연구

정혜미 ,  엄석기 ,  정희석 외 3명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2008 .05

증착 균일도를 고려한 회전형 CVD 장치의 최적 운전조건 탐색

이중호 ,  곽호상 ,  김동주

한국전산유체공학회 학술대회논문집

2012 .11

CFD에 의한 선박용 DPF/DOC내 배기가스의 유동 균일도 및 특성 연구

김윤지 ,  한단비 ,  백영순

청정기술

2019 .06

이온 샤우어 도핑을 이용한 자기정렬방식의 APCVD 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제작 ( Fabrication of self aligned APCVD a - Si TFT by using ion shower doping method )

문병연 ,  이경하 ,  정유찬 외 3명

전자공학회논문지-A

1995 .01

펄스 레이저 증착법에 의한 (Pb_0.72La_0.28)Ti_0.93O₃ 박막의 증착

은동석 ,  박정흠 ,  이상렬 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07

APCVD에 의한 BPSG 막질특성에 관한 연구

김의송 ,  이철진 ,  류지효 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07