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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.5
- 수록면
- 252 - 253 (2page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (5)
2010
Role of gas flow rate during etching of hard-mask layer to extreme ultra-violet resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas
권봉수
,
이정훈
,
이내응
한국진공학회 학술발표회초록집
2010.08
학술대회자료
Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas
권봉수
,
정창룡
,
이내응
외 1명
한국진공학회 학술발표회초록집
2010.02
학술대회자료
2009
Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled C₄F₈/CH₂F₂/O₂/Ar plasmas
권봉수
,
김진성
,
안정호
외 6명
한국진공학회 학술발표회초록집
2009.08
학술대회자료
Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas
권봉수
,
김진성
,
박영록
외 7명
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009.05
학술대회자료
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In this study, the deformation and etch characteristics of ArF and EUV photoresists were compared in a dual frequency superimposed capacitively coupled plasma (DFS-CCP) etcher systems using CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar mixture gas chemistry which are typically ... 전체 초록 보기
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ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
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Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma에서 실리콘 나이트라이드와 ArF PR의 무한대 에치 선택비
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
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Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma를 이용한 실리콘질화물과 ArF PR의 무한 선택비 식각 공정
한국표면공학회지
2006 .06
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Model based analysis of etching mechanism of HfO₂ films in inductively coupled CF₄/O₂/Ar and CHF₃/O₂/Ar plasma for dielectric mask
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2013 .11
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The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
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2013 .01
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O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
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고밀도 플라즈마에 의한 EUV 발생기술
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2000 .07
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2002 .01
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물중탕을 이용한 대면적 SiNx EUV 펠리클 제작
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
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Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .10
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The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
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Dry etching of ZnO thin film using a $CF_4$ mixed by Ar
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
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가간섭 EUV 생성을 위한 미세 패턴의 설계 및 제작
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2008 .06
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The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2014 .01
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극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트
공업화학
2006 .01
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CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
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CF₄/Ar 플라즈마를 이용한 SBT 박막 식각에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
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Ar/CF4 유도결합 플라즈마를 이용한 BET 박막의 식각 메커니즘
전기전자재료학회논문지
2003 .01
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CF4/O2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각
전기전자재료학회논문지
2002 .01
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