Comparison of etching characteristics of ArF and EUV photoresists in dual-frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

B. S. Kwon ,  H. W. Kim ,  H. J. Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

박창기 ,  김희대 ,  이춘희 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  정창룡 ,  이내응 외 1명

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2010 .02

Etching characteristics of DLC-hard mask using dual frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

H. T. Kim ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee 외 2명

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2007 .02

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

Frequency effect of TEOS oxide layer in dual-frequency capacitively coupled CH2F2/C4F8/O2/Ar plasma

J. H. Lee ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee

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2011 .02

Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled C₄F₈/CH₂F₂/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

EEDF measurement in SF6+O2 & CF4+O2 mixture gas capacitively coupled plasma

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2006 .02

Effect of high - frequency variation on ArF PR deformation and silicon nitride etching by dual frequency superimposed (DFS rf capacitive coupled plasma

N. E. Lee ,  D. H. Kim

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2004 .08

CF4/Ar 자화유도결합 플라즈마의 특성

김윤기 ,  손의정 ,  이호준

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2014 .08

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

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2004 .08

Role of CH2F2 and N-2 Flow Rates on the Etch Characteristics of Dielectric Hard-mask Layer to Extreme Ultra-violet Resist Pattern in CH2F2/N2/Ar Capacitively Coupled Plasmas

B. S. Kwon ,  J. H. Lee ,  N. E. Lee

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2011 .02

Role of gas flow rate during etching of hard-mask layer to extreme ultra-violet resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  이정훈 ,  이내응

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2010 .08

Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas

Yunho Nam ,  Junmyung Lee ,  Jongchan Lee 외 1명

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2019 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

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2018 .02

레이저 유도 형광법을 이용한 유도 결합 플라즈마내의 CF, CF₂ 라디칼의 거동에 관한 연구

김정훈 ,  이호준 ,  황기웅 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2000 .02

Characteristics of Internal Linear Inductively Coupled Plasma Source Operated with Superimposed Dual Frequency

김도한 ,  지유진 ,  김태형 외 4명

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2017 .02

Numerical modeling of Si/SiO₂ etching with inductively coupled CF4 plasma

양원균 ,  주정훈

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2010 .08

Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of MgO Thin Films Using a CH₄/Ar Plasma

Hwa Won Lee ,  Eun Ho Kim ,  Tae Young Lee 외 1명

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2011 .02