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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
최재학 (한국원자력연구소 방사선이용연구부) 노영창 (한국원자력연구소 방사선이용연구부) 홍성권 (충남대학교 공과대학 고분자공학과)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제17권 제2호
발행연도
2006.1
수록면
158 - 162 (5page)

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새로운 극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트의 매트릭스 수지로 poly[4-hydroxystyrene-co-2-(4-methoxybutyl)-2-adamantyl methacrylate]를 합성하고 평가하였다. 이 중합체로 제조된 레지스트로 KrF 엑시머 레이저 노광장비를 사용하여 선폭 120 nm (피치 240 nm)를 구현할 수 있었다. 극자외선 리소그래피 장비를 이용하여 평가한 결과 선폭 50 nm (피치 180 nm)의 포지형 패턴을 얻었다. $CF_{4}$ 플라즈마를 이용한 건식에칭내성 평가 결과 기존 원자외선 레지스트용 매트릭스 수지인 poly(4-hydroxystyrene)보다 약 10% 향상되었다.
#extreme UV lithography #chemically amplified resist #adamantly methacrylate

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