Comparison of Etching Characteristics of ArF and EUV Resists in Dual-frequency Superimposed Capacitively Coupled Plasmas

Bong Soo Kwon ,  Jin Sung Kim ,  Young Rok Pa 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  박영록 외 7명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Modeling and Simulation of Line Edge Roughness for EUV Resists

Sang-Kon Kim

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2014 .02

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01

ArF PR Slimming 개선에 관한 연구

최신규 ,  김영민 ,  정호형 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2011 .06

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

강우 사상의 시·공간적 규모 특성을 반영한 호우중심형 ARF 산정

김은지 ,  강부식

한국수자원학회 학술발표회

2018 .01

Challenges to 0.1mm Resolution Capability in ArF Single Layer Resist Process with Weak Resolution Enhancement Techniques

Makoto Takahashi ,  Shinji Kishimu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

강우 형태에 따른 호우중심형 ARF의 스케일 특성 비교

김은지 ,  강부식

대한토목학회 학술대회

2019 .10

Hindered amine additives for post-exposure delay stability in ArF chemically amplified resists

김진백 ,  권영길 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Study of Bottom Antireflective Coating Process Using a High-Transparency Resist for ArF Excimer Laser Lithography

Shinji Kishimu ,  a ,  Makoto Takahashi 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

ArF Single Layer Resist Composed of Alicyclic Main Chain Containing Maleic Anhydride

Jae Chang Jung ,  Cheol Kyu Bok ,  백기호

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Synthesis of Copolymers Containing 3-Hydroxycyclohexyl Methacrylate and Their Application as ArF Excimer Laser Resists

김진백 ,  김재영

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Simple Method for Resist CD Prediction

Shuji Nakao ,  Hi ,  oshi Matsuba 외 10명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

The Optical System for ArF Excimer Laser Exposure Tool

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01