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Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma를 이용한 실리콘질화물과 ArF PR의 무한 선택비 식각 공정
한국표면공학회지
2006 .06
ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma에서 실리콘 나이트라이드와 ArF PR의 무한대 에치 선택비
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
ArF PR Slimming 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2011 .06
고밀도 플라즈마에 의한 EUV 발생기술
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
물중탕을 이용한 대면적 SiNx EUV 펠리클 제작
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
가간섭 EUV 생성을 위한 미세 패턴의 설계 및 제작
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2008 .06
Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer
BMB Reports
2016 .01
EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .11
EUV 펠리클 투과도에 따른 이미지 전사 특성 분석
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
저 유전 재료의 에칭 공정을 위한 H₂/N₂ 가스를 이용한 Capacitively Coupled Plasma 시뮬레이션
전기학회논문지 C
2006 .12
EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
전기의세계
2002 .02
EUV 리소그래피의 감광제 패터닝 공정에 대한 전산모사
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .04
EUV pellicle의 standoff 거리에 따른 이미지 전사 특성 평가
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
강우 사상의 시·공간적 규모 특성을 반영한 호우중심형 ARF 산정
한국수자원학회 학술발표회
2018 .01
Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
Characteristics of RF pulsed bais etching on multi-layer resist (MLR) structure using 27.12 MHz/2 MHz dual-frequency capacitively coupled plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
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