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고밀도 플라즈마에 의한 EUV 발생기술
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .11
EUV 펠리클 투과도에 따른 이미지 전사 특성 분석
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
물중탕을 이용한 대면적 SiNx EUV 펠리클 제작
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
EUV 리소그래피의 감광제 패터닝 공정에 대한 전산모사
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .04
EUV pellicle의 standoff 거리에 따른 이미지 전사 특성 평가
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
EUV Lithography 개요 및 기술 개발 현황
전기의세계
2002 .02
Ring-Field EUV Exposure System Using Aspheric Mirrors
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2018 .04
Novel Silicon-containing Polynorbornenes as Photoresists for Extreme Ultraviolet Lithography
한국섬유공학회지
2006 .01
Interpretation of Line Edge Roughness in Extreme-Ultraviolet (EUV) Lithography using Molecular Simulations
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2019 .04
Comparison of Etching Characteristics of ArF and EUV Resists in Dual-frequency Superimposed Capacitively Coupled Plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
극자외선(EUV) 리소그라피를 위한 광원 및 스테이지 기술
전기의세계
2002 .02
해외신기술 동향
광산업정보
2003 .01
A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2012 .10
극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Synthesis of Fluorinated Alternating Copolymer and Photolithographic Characterization under High Energy Electron-beam and EUV Radiation
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2020 .10
극자외선 간섭 리소그래피용 Transmission Grating 나노공정기술개발
한국통신학회 기타 간행물
2009 .12
멀티스케일 전산모사기법을 이용한 EUV 리소그래피 공정의 포토레지스트 형상 예측
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .12
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