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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제42권 제3호
발행연도
2009.6
수록면
133 - 138 (6page)

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Effects of bipolar pulse driving frequency between 50 ㎑ and 250 ㎑ on the discharge shapes were analyzed by measuring plasma characteristics by OES (Optical Emission Spectroscopy) and Langmuir probe. Plasma characteristics were modeled by a simple electric field analysis and fluid plasma modeling. Discharge shapes by a continuous dc and bipolar pulsed dc were different as a dome-type and a vertical column-type at the cathode. From OES, the intensity of 811.5 ㎚ wavelength, the one of the main peaks of Ar, decreased to about 43% from a continuous dc to 100 ㎑. For increasing from 100 ㎑ to 250 ㎑, the intensity of 811.5 ㎚ wavelength also decreased by 46%. The electron density decreased by 74% and the electron temperature increased by 36% at the specific position due to the smaller and denser discharge shape for increasing pulse frequency. Through the numerical analysis, the negative glow shape of a continuous dc were similar to the electric potential distribution by FEM (Finite Element Method). For the bipolar pulsed dc, we found that the electron temperature increased to maximum 10 eV due to the voltage spikes by the fast electron acceleration generated in pre-sheath. This may induce the electrons and ions from plasma to increase the energetic substrate bombardment for the dense thin film growth.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험 결과
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (10)

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