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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제40권 제5호
발행연도
2007.10
수록면
209 - 213 (5page)

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Change of the plasma volume by pulse frequency in a bipolar pulsed DC unbalanced magnetron sputtering was investigated. As increasing the frequency at off duty 10% and at a constant power, the plasma volume was lengthened in vertical direction from the AZO target. When there is an electrically floated substrate, the vertical length of the plasma area was not affected by the pulse frequency. Instead, the diameter of the plasma volume was increased. We found that the temperature rise of a substrate was affected by the pulse frequency, too. As increasing it, the maximum temperature rise of a glass substrate was decreased from 132℃ to 108℃.
#AZO #Bipolar pulsed DC #Plasma volume #UBM

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
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