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Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌
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Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
Negative Ion Formation in SiO2 Etching Using a Pulsed ICP Plasma
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2014 .05
아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구
KEPCO Journal on electric power and energy
2015 .01
수치모델을 이용한 pulsed dc bias ICP장치의 플라즈마 특성 해석
한국표면공학회지
2010 .06
고수율 집속 이온빔 장치를 위한 ICP 이온원의 빔 인출 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2013 .05
CFD-ACE+를 이용한 ICP + pulsed dc bias system의 수치 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .10
ICP 광원의 정격용량 설계 요소와 전기적 의존성
전기학회논문지
2008 .03
안테나에서 페라이트 위치 변화에 따른 전자계 시뮬레이션과 전기적ㆍ광학적 특성
전기학회논문지
2008 .05
주조 스테인리스강의 해양환경 하에서 플라즈마 이온질화 공정온도에 따른 부식특성 연구
한국표면공학회지
2017 .12
[표면 기술의 응용] 반응성 증착용 펄스 플라즈마 공정의 진단
한국표면공학회지
2012 .08
High Temperature Pulsed Plasma Flux 응용 금속 표면경화 공정기술 ( Surface Hardening Technology of the Metal by High Temperature Pulsed Plasma Flux )
대한용접·접합학회지
2001 .08
Pulsed D. C. 플라즈마를 이용한 Hole 내부의 플라즈마 질화에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .11
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
EFFECT OF NEUTRAL GAS FLOW ON THE PLASMA STATE IN ICP PROCESS,
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
직류 방전과 펄스 직류 방전에 의한 플라즈마 형상 관찰
한국표면공학회지
2009 .06
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
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