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열처리에 따른 TiN Diffusion Barrier 에서의 Oxygen 거동에 관한 연구 ( Oxygen Behaviors During Heat Treatment of TiN Diffusion Barriers )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
플라즈마 원자층 증착법을 이용한 하이브리드 기능성 Ru-TiN 히터 박막의 합성 및 특성 평가
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Properties and Diffusion Barrier Performance of MOCVD TiN Films
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
TiN의 산화방지를 위한 고유전 박막기억소자용 Pt/Ru 이중금속전극 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
PEALD를 이용한 Ruthenium Barrier Layer 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2010 .11
Ru(EtCp)2 전구체를 이용한 PEALD Ru 공정 최적화에 관한 연구
한국분말야금학회지
2013 .01
Reactive-Sputtered TiN Diffusion Barriers의 광학적 특성에 관한 연구 ( Optical Properties of TiN Diffusion Barriers Deposited by Reactive Sputtering )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Ru$O_{2}$ 박막과 Ru$O_{2}$/Ru 이중막의 산소 분위기 열처리시 표면 반응 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
TiN의 Cu 확산 방지막 특성
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
새로운 Ru precursor를 이용하여 증착한 Ru 박막의 두께 및 산소의 박막 특성에 대한 영향분석
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Ru 박막의 응력 거동 분석 및 산소 유량 조절을 통한 결정립 성장 억제
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
TiN의 충진처리가 확산방지막 특성에 미치는 영향(II) : Cu/TiN/Si 구조
한국재료학회지
1995 .01
원자층 증착법으로 형성한 TiN 박막의 특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
EFFECT OF VACUUM ANNEALING OF MOCVD TiN ON THE DIFFUSION BARRIER PROPERTY
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
The Effects of Etch Chemicals on the Electrical Properties of Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Device with Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited (PEALD) TiN Metal Electrode
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
EFFECTS OF THE SUBSTRATE TEMPERATURE AND $O_2$/Ar RATIO ON THE PROPERTIES OF Ru$O_2$ FILMS
Fabrication and Characterization of Advanced Materials
1995 .01
Titanium Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition as Bipolar Plate for Proton Exchange Membrane Fuel Cell
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
Reliability of Aluminum Film with TiN Barrier Metal
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
$(Ru_{0.8}Nb_{0.2})Sr_2(Gd_{1.5-x}Nd_xCe_{0.5})Cu_2O_z$ 계의 합성 및 초전도 특성
Progress in superconductivity
2009 .01
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