대기압 플라즈마 Photoresist Ashing에 관한 연구

악흔 ,  김윤환 ,  이상로

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

플라즈마 약액 활성화 방법을 이용한 Photoresist strip 가속화 연구

김수인 ,  이창우

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Chemically Amplified Photoresists for Electron Beam Lithography

Youngmin Choi ,  Sang-Wook Pa ,  k 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Alicyclic Polymers Based on t-BOC Norbornene Derivatives and Maleic Anhydride for Applications as ArF Photoresists

Ahn ,  Kwang-Duk ,  Kang 외 18명

한국광과학회 학술대회

1999 .01

Comparison of etching characteristics of ArF and EUV photoresists in dual-frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

B. S. Kwon ,  H. W. Kim ,  H. J. Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

대기압 Pin-To-Plate Dielectric Barrier Discharge 형식의 Remote Plasma 를 이용한 Photoresist의 Ashing 에 관한 연구

박재범 ,  경세진 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Infinitely high selectivity etching of SnO2 binary mask in the new absorber material for EUVL using inductively coupled plasma

S. J. Lee ,  C. Y. Jung ,  N. E. Lee

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

포토 레지스트의 기술 동향과 화학 증폭형 포토레지스트에서의 광산 발생제의 연구

김성훈 ,  김상태

조선자연과학논문집

2009 .01

자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각

정지원 ,  박익현 ,  박왕현 외 4명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2005 .12

엑시머레이저를 이용한 웨이퍼 표면의 PR제거

백지영 ,  송재동 ,  이명화 외 4명

한국대기환경학회 학술대회논문집

2008 .04

Inductively coupled plasma etching of SnO2 as a new absorber material for EUVL binary mask

이수진

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

CdS Thin Films Properties Prepared by Chemical Bath Deposition Techniques for Photoresists

강고루 ,  윤주영 ,  김진태 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

플라즈마 약액 활성화 방법을 이용한 Photoresist strip 가속화 연구

김수인 ,  이창우

Applied Science and Convergence Technology

2008 .03

C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석

이영석 ,  김시준 ,  조철희 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Preparation of the Polymers Containing Phenylamide and Dimethylaminoethyl Groups and their Properties as a Nagative Photoresist

Chae ,  Kyu-Ho ,  Kang 외 5명

Journal of photoscience : an international journal officail organ of the korean society of photoscience

2000 .01

Infinitely high selective etching of ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL)

박영록 ,  안정호 ,  김진성 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

SiO₂ 식각을 위한 low angle forward reflected neutral beam 식각 system에 관한 연구

정민재 ,  이도행 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Preparation of photoresist-derived carbon micropatterns by proton ion beam lithography and pyrolysis

Nam ,  Hui-Gyun ,  Jung 외 9명

Carbon letters

2017 .01