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저자정보
김성훈 (동우화인켐 전자재료연구소) 김상태 (동우화인켐 전자재료연구소)
저널정보
조선대학교 기초과학연구원 조선자연과학논문집 조선자연과학논문집 제2권 제4호
발행연도
2009.1
수록면
252 - 264 (13page)

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Lithographic data obtained from PHS(polyhydroxy styrene) having various functionalities were investigated by using a photoacid generator based on diazo and onium type. Chemically amplified photoresist based on the KrF type photoresist was developed by using a photoacid generator and multi-functional resin. Thermal stability for the photoacid generator showed that the increase of loading amount of photoacid generator resulted in the decrease of glass transintion temperature (Tg). The photoacid generators having methyl, ethyl, or propyl group in their cationic structure produced T-top structure in pattern profile due to the effect of acid diffusion during the generation of acid in the resist. The increase of carbon chain length in the anionic structure of photoacid generators resulted in lower pattern resolution due to the interruption of acid diffusion.

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