Infinitely high selective etching of ITO to Ru in ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL) in inductively coupled Cl₂/Arplasmas

박영록 ,  정창룡 ,  권봉수 외 8명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Infinitely high selectivity etching of SnO2 binary mask in the new absorber material for EUVL using inductively coupled plasma

S. J. Lee ,  C. Y. Jung ,  N. E. Lee

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Inductively coupled plasma etching of SnO2 as a new absorber material for EUVL binary mask

이수진

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Infinitely high etch selectivity of indium tin oxide (ITO) layer to photoresist during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching

D. Y. Kim ,  J. H. Ko ,  M. S. Pa 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

투과형 LCD mask를 이용한 실시간 Lithography

피성훈 ,  장유진 ,  안승언 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .08

유도결합형 Ar / CH₄ 플라즈마를 이용한 ITO의 식각 특성에 관한 연구

박준용 ,  김현수 ,  권광호 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

1999 .12

Dry Etching Characteristics of ITO/Ag/ITO Multi-Layer Thin Film using ECR Plasma Source based on HCI/H2 Gas Mixture

SeongYong Kwon ,  SeungMin Shin ,  HoWonYoon 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Measurement of electron temperature and density of the coaxial focused plasma in accordance with insulator lengths for extreme ultraviolet (EUV) lithography

Young June Hong ,  Min Wug Moon ,  Gi Chung Kwon 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Measurement of electron temperature and density using Stark broadening of the coaxial focused plasma for extreme ultraviolet (EUV) lithography

Sung Hee Lee ,  Young June Hong ,  Eun Ha Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

OLED의 양극으로써 ITO/Ag/ITO와 ITO/Ag/ITO/Ag/ITO 다층박막의 전기적ㆍ광학적 특성에 관한 연구

윤서연 ,  이찬재 ,  곽민기

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Hybrid structures of ITO nanowire-embedded ITO-film for the enhanced Si photodetectors

Gyeong-Nam Lee ,  Joondong Kim

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

The field emission property of carbon nanotube and ITO composites formed by chemical etching process

Myungchan An ,  Youngjin Kang ,  Donghoon Oh 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Effect of Intermediate Metal on the Methanol Gas Sensitivity of ITO Thin Films

H. M. Lee ,  S. B. Heo ,  Y. M. Kong 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2011 .05

Patterned media Made by Nanoimprint Lithography with a Self-assembled Polymer Mask

Yoshiyuki Kamata ,  Aki ,  a Kikitsu 외 5명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2007 .05

ITO-Ag-ITO 다층박막의 특성 변화 연구

박소하 ,  서용곤 ,  윤형도 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

ArF Photoresist와 EUVL Photoresist의 식각특성 비교

권봉수 ,  이학주 ,  이내응 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Study of Magnetic Field Shielded Sputtering Process as a Room Temperature High Quality ITO Thin Film Deposition Process

JunYoung Lee ,  YunSung Jang ,  YouJong Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Analysis of Fabry-Perot dip shift by selective etching of GaAs/AlGaAs selective etching layer

이용우 ,  주건우 ,  배성현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02