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유도결합형 BCl₃ 및 BCl₃ / Cl₂계 플라즈마를 이용한 sapphire wafer의 건식식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
고밀도 유도결합형 Cl₂ / BCl₃ / Ar 플라즈마를 이용한 sapphire의 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
유도결합형 HBr / Cl₂ 플라즈마를 이용한 shallow trench 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
유도 결합형 플라즈마를 이용한 BCl₃/ Cl₂/ Ar gas의 ZnO 박막의 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .02
BCl₃ 유도결합형 플라즈마를 이용한 사파이어 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
HBr/Ar의 고밀도 플라즈마를 이용한 Indium Zinc Oxide 투명전극의 건식 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
HBr 가스를 이용한 MgO 박막의 고밀도 반응성 이온 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
BCl₃ / O₂/ Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1999 .12
자화 유도 결합 Cl₂ / BCl₃ / O₂, Cl₂ / BCl₃ / N₂ 플라즈마를 이용한 Ⅲ - nitrides 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
실리콘 트렌치 식각 특성에 미치는 He - O₂ SiF₄ 첨가 가스의 영향
Applied Science and Convergence Technology
1997 .11
TCP 장치에서 Cl₂ / He / HBr을 이용한 Poly - Si 건식식각시 발생하는 진행성 etch rate 감소 현상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
C4F8 가스를 이용한 식각 공정 플라즈마에서 첨가 가스(Ar, Kr)에 따른 플라즈마 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
CF₄ 유도결합플라즈마를 이용한 식각 장치의 바이어스 전극에서 측정 된 전기적 특성과 식각률 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
The Effect on Electrical Property of Etched Magnetic Tunnel Junction Stack in Cl₂/Ar and HBr/Ar plasma
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2007 .05
ICP Poly Etcher를 이용한 RF Power와 HBr Gas의 변화에 따른 Polysilicon의 건식식각
Applied Science and Convergence Technology
2006 .11
유도결합 Cl₂ 및 HBr / Cl₂ 플라즈마를 이용한 STI용 실리콘 Shallow trench 식각공정에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1997 .08
SiO₂ 원자층 식각에서 인가 전력 공정 윈도우와 플라즈마 활성종 간 상관관계
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
플라즈마 식각공정에서 Radial Basis Function Neural Network Model를 이용한 식각 종료점 검출
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
유도 결합 플라즈마를 이용한 6H - SiC 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
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