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유도결합 Cl₂ 및 HBr / Cl₂ 플라즈마를 이용한 STI용 실리콘 Shallow trench 식각공정에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1997 .08
유도 결합형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
유도 결합 플라즈마를 이용한 6H - SiC 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
유도결합형 BCl3 / HBr / Ar계 플라즈마를 이용한 sapphire 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .02
유도 결합형 플라즈마를 이용한 BCl₃/ Cl₂/ Ar gas의 ZnO 박막의 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .02
ICP(Inductively Coupled Plasma)를 이용한 Shallow Trench식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
고밀도 유도결합형 Cl₂ / BCl₃ / Ar 플라즈마를 이용한 sapphire의 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
유도결합 Cl₂ / CHF₃, Cl₂ / CH₄, Cl₂ / Ar 플라즈마를 이용한 InGaN 건식 식각 반응기구 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
TCP 장치에서 Cl₂ / He / HBr을 이용한 Poly - Si 건식식각시 발생하는 진행성 etch rate 감소 현상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
자화 유도 결합 Cl₂ / BCl₃ / O₂, Cl₂ / BCl₃ / N₂ 플라즈마를 이용한 Ⅲ - nitrides 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
Shallow trench 식각 공정시 발생하는 격자결함 관찰 및 제거동향 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
자화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 Al - Nd 박막의 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
실리콘 트렌치 식각 특성에 미치는 He - O₂ SiF₄ 첨가 가스의 영향
Applied Science and Convergence Technology
1997 .11
자화된 유도결합 플라즈마에서의 SF₆/O₂ 특성 및 Silicon Via에 대한 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
HBr/Ar의 고밀도 플라즈마를 이용한 Indium Zinc Oxide 투명전극의 건식 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
BCl₃ 유도결합형 플라즈마를 이용한 사파이어 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
자화 유도 결합 플라즈마를 이용한 Platinum 식각에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
유도결합플라즈마 식각 장비에서 안테나와 웨이퍼간 거리 차에 따른 플라즈마 변화 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
고밀도 유도 결합형 플라즈마를 이용한 Mo 건식 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
자장 인가된 SF6계 유도결합형 플라즈마를 이용한 SiC 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
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