Comparison of High Density Plasma Etching of AlGaAs / GaAs and InGaP / GaAs in Planar Inductively Coupled BCl3 Plasmas

백인규 ,  임완태 ,  정필구 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Comparison of Selective and Non - selective Dry Etching of GaAs - based Semiconductors in Planar Inductively Coupled BCl₃ based Plasmas

류현우 ,  유승열 ,  장수욱 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .02

Investigation of GaAs over AlGaAs and InGaP Selective Dry Etching in Planar Inductively Coupled Plasmas with BCl₃ / SF6 based Chemistries

유승열 ,  장수욱 ,  류현우 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .02

Catalytic Effects of Ar addition for High - rate Dry etching of Ga - based compound semiconductors in High - Density Planar Inductively Coupled BCl3 / Ar Plasmas

이제원 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

In - situ Plasma Diagnosis with an Optical Emission Spectroscopy during BCl₃- based High - Density Inductively Coupled Dry Etching

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

확산펌프 기반의 BCl₃ 축전결합 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaAs의 건식 식각

이성현 ,  박주홍 ,  노호섭 외 4명

Applied Science and Convergence Technology

2009 .07

Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma

Yim ,  Jeong-Hyuk ,  Lee 외 13명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Etch Characteristics of CO/NH3 Plasma Gas for Magnetic Random Access Memory in Pulsed-biased Inductively Coupled Plasmas

양경채 ,  전민환 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Cl₂ - based dry etching of GaN and InGaN using inductively coupled plasma : the effect of gas additives

이지면 ,  박성주

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .02

진보된 컨택 식각을 위한 자화 유도 결합 고밀도 플라즈마

이호준 ,  김정훈 ,  김중균 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

Numerical modeling of Si/SiO₂ etching with inductively coupled CF4 plasma

양원균 ,  주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .07

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Etch Characteristics of MgO Thin Films in Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar Plasmas

Il Hoon Lee ,  Tea Young Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2 / Ar inductively coupled plasma

M. H. Shin ,  S. W. Na ,  N.-E. Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Etch Characteristics of IrMn Thin Films Using an Inductively Coupled Plasma of CH₃OH/Ar

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S .M. Kong 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12