Advanced Dry Etching of GaAs in High - Density Planar Inductively Coupled BCl3 Plasmas

임완태 ,  백인규 ,  정필구 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Investigation of GaAs over AlGaAs and InGaP Selective Dry Etching in Planar Inductively Coupled Plasmas with BCl₃ / SF6 based Chemistries

유승열 ,  장수욱 ,  류현우 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .02

Comparison of High Density Plasma Etching of AlGaAs / GaAs and InGaP / GaAs in Planar Inductively Coupled BCl3 Plasmas

백인규 ,  임완태 ,  정필구 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Catalytic Effects of Ar addition for High - rate Dry etching of Ga - based compound semiconductors in High - Density Planar Inductively Coupled BCl3 / Ar Plasmas

이제원 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

In - situ Plasma Diagnosis with an Optical Emission Spectroscopy during BCl₃- based High - Density Inductively Coupled Dry Etching

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

확산펌프 기반의 BCl₃ 축전결합 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaAs의 건식 식각

이성현 ,  박주홍 ,  노호섭 외 4명

Applied Science and Convergence Technology

2009 .07

The Motion of Ferromagnetic Domain in Ge_0.7Mn_0.3 Semiconductors

Sung-Kyu Kim ,  K. J. Yee ,  S. Pa 외 5명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2008 .12

평면형 유도결합 플라즈마의 특성 및 선택적 산화막 식각 응용에 관한 연구

양일동 ,  이호준 ,  황기웅

Applied Science and Convergence Technology

1997 .02

Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma

Yim ,  Jeong-Hyuk ,  Lee 외 13명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Analysis of Fabry-Perot dip shift by selective etching of GaAs/AlGaAs selective etching layer

이용우 ,  주건우 ,  배성현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Selective etching of Mo/HfO₂ in inductively coupled Cl₂/O₂ plasmas for gate stack patterning

H.Y. Jung ,  B.S. Kwon ,  H.J. Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Cl₂ - based dry etching of GaN and InGaN using inductively coupled plasma : the effect of gas additives

이지면 ,  박성주

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .02

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Etch Characteristics of CO/NH3 Plasma Gas for Magnetic Random Access Memory in Pulsed-biased Inductively Coupled Plasmas

양경채 ,  전민환 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Numerical modeling of Si/SiO₂ etching with inductively coupled CF4 plasma

양원균 ,  주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .07