Surface Etching of Si(100) by Atomic Hydrogen

J. Y. Maeng ,  S. K. Jo ,  S. Kim

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

Microfabrication of submicron - size hole for potential field emission and near field optical sensor applications

이주원 ,  최성수 ,  김종우 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2000 .05

Surface Morphological Evolution during Chemical Dry Etching of Crystalline Si using F radicals and NO Gas

J. H. Ahn ,  W. heo ,  C. R. Jung 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

LCD 공정용 C₃F₆ 가스를 이용한 Si₃N₄박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구

전성찬 ,  공대영 ,  표대승 외 4명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .07

In-situ magnetization measurements and ex-situ morphological analysis of electrodeposited cobalt onto chemical vapor deposition graphene/SiO₂/Si

F ,  anco ,  Vinicius C. De 외 10명

Carbon letters

2017 .01

Study on etching-shape of ZnO Film by wet-chemical etching

Dong Geun Yoo ,  Myoung Hwa Kim ,  Seong Hun Jeong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

박창기 ,  김희대 ,  이춘희 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Satistical Analysis of SiO₂ Contact Hole Etching in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Reactor

Chunli Liu ,  B. Sh ,  aune

Journal of Magnetics

2010 .09

Nano - structure of Si₃N₄ on Si(001) using ionized N₂ gas

정민철 ,  한문섭 ,  유병덕 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Micro-pyramidal structure fabrication by Si (100) KOH wet etching

Shinae Hwang ,  Kyungsuk Lim ,  Hyeseon Shin 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Silicon trench etching using inductively coupled Cl₂/ O₂ and Cl₂/ N₂ plasmas

Hyeon-Soo Kim ,  Young-Jun Lee ,  Geun-Young Yeom

Journal of Korean Vacuum Science & Technology

1998 .10

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Si Deep Etching Process Study for Fine Pitch Probe Unit

한명수 ,  박일몽 ,  한석만 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

PECVD 기법에 의해 제조된 nc-Si : H 박막의 나노 구조적 특성

심재현 ,  정수진 ,  조남희

한국결정학회지

2003 .01

Plasma Dry Etching 방법에 의한 Wafer Backside Etch 특성 평가

한영기 ,  서영수 ,  유재하 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

고밀도 플라즈마를 사용한 Si - Poly/CI₂ Etching

이휘건 ,  차훈 ,  김성경 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

승온시 Si₂H6 가스 주입을 이용한 표면 SiO₂의 억제 및 비정질 Si의 고상 에피텍시에 관한 연구

최태희 ,  남승의 ,  김형준

Applied Science and Convergence Technology

1996 .09