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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.8
- 수록면
- 359 - 359 (1page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (4)
2009
Removal Process of Si Sacrificial Layer for Ni 3-Dimentional Structure using F radicals and NO Gas
J. H. Ahn
,
W. heo
,
N.-E. Lee
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009.10
학술대회자료
Surface Morphological Evolution during Chemical Dry Etching of Crystalline Si using F radicals and NO Gas
J. H. Ahn
,
W. heo
,
C. R. Jung
외 5명
한국진공학회 학술발표회초록집
2009.08
학술대회자료
Surface Morphological Evolution during Chemical Dry Etching of Crystalline Si using F radicals and NO Gas
J. H. Ahn
,
W. Heo
,
C. R. Jung
외 1명
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009.05
학술대회자료
Maskless Chemical Dry Texturing of Silicon Surface using Fluorine Radicals and NO Gas
J. H. Ahn
,
Y. R. Pa
,
k
외 2명
한국진공학회 학술발표회초록집
2009.02
학술대회자료
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2016 .08
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