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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2000.5
- 수록면
- 99 - 101 (3page)
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Submicron aperture 제작 기술은 near field optical sensor 또는 liquid metal ion source에 응용될 수 있는 가능성으로 인해 흥미를 모으고 있다. 본 실험에서는 submicron aperture 제작에 대해 기술할 것이다. 먼저, 2 ㎛ 크기의 dot array를 광학 리소그라피 방법으로 패턴화하였다. KOH 비등방성 식각 방법으로 V-groove 형을 만든 후, 1000℃에서 600분 동안 건식 산화 작업을 거쳤다. 이 산화 과정에서 결정 방향에 따라 산화율이 달라지게 되는데 Si(111) 면은 Si(100)면에 비해 산화율이 커서 두꺼운 산화막이 형 ... 전체 초록 보기
목차
Abstract
요약
1. Introduction
2. Fabrication Procedures and Results
3. Discussion and Conclusions
Acknowledgement
References
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