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식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
He을 이용한 magnetic tunneling junction 물질의 식각 특성 향상
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
고종횡비 식각 공정에서 Edge Ring에 의한 이온 Tilting 모사 및 식각 Profile 분석 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
비활성 기체를 이용한 magnetic tunneling junction 물질의 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Pulsed Inductively Coupled Plasma를 이용한 Si nanostructure 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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