Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Study on etching-shape of ZnO Film by wet-chemical etching

Dong Geun Yoo ,  Myoung Hwa Kim ,  Seong Hun Jeong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Real-time Advanced Process Control Technology Using Optical Emission Spectroscopy in Dry Etching Process

방진영 ,  김태랑 ,  전중현

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선

신한수 ,  노용한 ,  이내응

Applied Science and Convergence Technology

2011 .09

Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구

오지수 ,  김교운 ,  김희주 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Dry Etching에 의해 제작된 실리콘 미세 구조물

홍석민 ,  임창덕 ,  조정희 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

1997 .08

Optimization of Backside Etching with High Uniformity for Large Area Transmission-Type Modulator

Soo Kyung Lee ,  Byung Hoon Na ,  Gun Wu Ju 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .08

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

ETCHING TIME DEPENDENCE OF MAGNETIC PROPERTIES IN ONE SIDE ETCHED Co - BASED RIBBON

Lan Jin ,  CheolGi Kim ,  SeokSoo Yoon 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2005 .06

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

Satistical Analysis of SiO₂ Contact Hole Etching in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Reactor

Chunli Liu ,  B. Sh ,  aune

Journal of Magnetics

2010 .09

A perspective on patents on dry etching apparatus

Min W. LEE ,  In H. LEE ,  Jun S. LEE 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08