고밀도 플라즈마를 사용한 Si - Poly/CI₂ Etching

이휘건; 차훈; 김성경; 문대식; 김정곤

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 이휘건 차훈 김성경 문대식 김정곤

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제9회 학술발표회논문개요집

발행연도: 1995.6

수록면: 99 - 99 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

1999

고밀도 플라즈마를 사용한 Cl₂ / Poly - Si 건식 식각

이휘건 Applied Science and Convergence Technology 1999.02 학술저널

1995

고밀도 플라즈마를 사용한 Si - Poly/CI₂ Etching

이휘건 , 차훈 , 김성경 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 1995.06 학술대회자료

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차훈

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주요연구분야 자연과학 > 물리학

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김성경

소속기관 한국진공학회

주요연구분야 자연과학 > 물리학

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문대식

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주요연구분야 자연과학 > 물리학

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김정곤

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