지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.8
- 수록면
- 78 - 78 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Comparison of etching characteristics of ArF and EUV photoresists in dual-frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
-
Characteristics of Internal Linear Inductively Coupled Plasma Source Operated with Superimposed Dual Frequency
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Etching characteristics of DLC-hard mask using dual frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .02
-
Characteristics of Inductively Coupled Plasma Source Using Internal Linear Antenna Operated by Superimposed Dual Frequency
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .08
-
Selective etching of SiO2 using embedded RF pulsing in a dual-frequency capacitively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled CH₂F₂/H₂plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .08
-
Etch Characteristics of SiO2 by using Pulse-Time Modulation in the Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
-
Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
-
Effects of CH₂F₂ and H₂ flow rates on process window for infinite etch selectivity of silicon nitride to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
-
Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
-
Plasma etching of gallium nitride at high temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma에서 Pulse-Time Modulation을 이용한 SiO₂의 식각특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .02
-
The Plasma Characterization of Multiple RF Power for Oxide Via Etching Process
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
-
Effect of Multiple Radio-Frequency on Sputter Etching in Dual Coil Inductively Coupled Plasma Etcher
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
-
Simulation and Measurement of Characteristic in 450 ㎜ CCP Plasma Source
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
-
Sensitivity Enhancement of RF Plasma Etch Endpoint Detection With K-means Cluster Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
High Density Plasma Nitrogen Implantation을 이용한 Silicon Nitride 형성
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
-
TCP(Transformer Coupled Plasma)를 이용한 RF Sputter Etch Chamber 제작 및 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .02
-
Temporal fluctuation of electron density measured by means of Wave-Cutoff method in Radio Frequency Capacitive Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-554-018019074