An Indirect Method to Monitor Plasma Status in a Transformer Coupled Plasma

유대호 ,  안승규 ,  김지훈 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

평판형 유도결합플라즈마를 이용한 RF 스퍼터 식각반응로 제작 및 특성에 관한 연구

이원석 ,  이진호 ,  염근영

Applied Science and Convergence Technology

1995 .06

The Plasma Characterization of Multiple RF Power for Oxide Via Etching Process

Kun Joo Pa ,  k ,  Min Shik Kim 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

RF magnetron sputtering과 O₂ plasma ashing 공정을 이용한 다공성 구조 박막 제작 및 특성 분석

장성우 ,  황세훈 ,  윤정현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

아르곤 / 수소 유도결합 플라즈마를 이용한 RF sputter cleaning 에 관한 연구

이원석 ,  이진호 ,  남욱준 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

RF Sputtering으로 증착한 In2O3:C 박막의 구조 전이 연구

김주현 ,  강현철

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Transformer-Coupled Toroidal Remote Plasma Source for Chamber Cleaning with NF₃ and CF₄

Duhyeon Ka ,  Jie Li ,  Heeyeop Chae 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Reproducible bias-induced resistance switching in CoO_x thin films prepared by a RF sputtering method

June Sik Kwak ,  Young Ho Do ,  Yoon Cheol Bae 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Radio Frequency Inductively Coupled Plasma 를 이용한 High Ionization Sputtering 장치의 제작

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Effect of Multiple Radio-Frequency on Sputter Etching in Dual Coil Inductively Coupled Plasma Etcher

Haegyu Jang ,  Min-Shik Kim ,  Kun-Joo Pa 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Chromium nitride coating by inductively coupled plasma-assisted RF magnetron sputtering

장호성 ,  김유성 ,  최대한 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Effect of RF Bias on Plasma Parameters and Electron Energy Distribution in RF Biased Inductively Coupled Plasma

Hyo-Chang Lee ,  Chin-Wook Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

PZT Sputtering Target제작과 RF-Magnetron Sputtering System을 이용한 PZT박막제작

정상묵 ,  임실묵

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02