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Effect of Multiple Radio-Frequency on Sputter Etching & Ashing in Dual Coil ICP Etcher
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Radio Frequency Inductively Coupled Plasma 를 이용한 High Ionization Sputtering 장치의 제작
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
Newly Designed Ion Beam Etcher with High Etch Rate
Journal of Magnetics
2015 .12
Correlation between Coil Configurations and Discharge Characteristics of a Magnetized Inductively Coupled Plasma
Journal of Magnetics
2016 .06
Effects of the Capacitive Field in an Inductively Coupled Plasma Discharge
Applied Science and Convergence Technology
2017 .09
Dry etching of Al₂O3 thin films in inductively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma
한국결정학회 학술연구발표회
2007 .01
ICP dry etcher에서 세라믹 리드의 온도 조절에 의한 폴리머 증착 양상 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F8 for inductively coupled plasma based on plasma parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2010 .12
Surface Coil with an Inductively Coupled Wireless Surface and Volume Coil for Improving the Magnetic Field Sensitivity at 400-MHz MRI
Journal of Magnetics
2018 .06
Two - dimensional simulation of inductively coupled large - area plasma source
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
평판형 직사각 유도결합 플라즈마 표면 처리 시스템의 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
Numerical modeling of Si/SiO₂ etching with inductively coupled CF4 plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
Dry Etcher에서 ESC의 중요성
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
300 mm wafer용 ICP dry etcher의 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Birdcage Coil with Inductively Coupled RF Coil Array for Improving |B₁|-Field Sensitivity In 7-T MRI
Journal of Magnetics
2017 .09
Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2 / Ar inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
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