Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Plasma Impedance Monitoring with Real-time Cluster Analysis for RF Plasma Etching Endpoint Detection of Dielectric Layers

장해규 ,  채희엽

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선

신한수 ,  노용한 ,  이내응

Applied Science and Convergence Technology

2011 .09

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

The characterization of low-k SiCOH etched film as a function of plasma power

Sungwoo Lee ,  Jihyung Woo ,  Seungchae Choi 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Development of the DC-RF Hybrid Plasma Source

김지훈 ,  천세민 ,  강인제 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Sensitivity Enhancement of RF Plasma Etch Endpoint Detection With K-means Cluster Analysis

Honyoung Lee ,  Haegyu Jang ,  Hak-Seung Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Plasma Dry Etching 방법에 의한 Wafer Backside Etch 특성 평가

한영기 ,  서영수 ,  유재하 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Modified Principal Component Analysis for Real-Time Endpoint Detection of SiO2 Etching Using RF Plasma Impedance Monitoring

장해규 ,  김대경 ,  채희엽

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2011 .02

TCP(Transformer Coupled Plasma)를 이용한 RF Sputter Etch Chamber 제작 및 특성에 관한 연구

이원석 ,  이진호 ,  김현수 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Plasma Source Ion Implantation using High Power Pulsed RF Plasma

Seunghee Han ,  Yeonhee Lee ,  Youngwoo Kim 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

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2019 .08

Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas

Won-Seok Chang ,  Deuk-Chul Kwon ,  Mi-Young Song 외 7명

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2017 .02

Real-time Advanced Process Control Technology Using Optical Emission Spectroscopy in Dry Etching Process

방진영 ,  김태랑 ,  전중현

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2014 .08

Plasma impedance matching technique for bio plasma RF source

Kwang Ho JANG ,  Bo Ki KIM ,  Jin Joo CHOI 외 2명

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2016 .08

Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature

K. Takeda ,  Y. Fukunaga ,  T. Tsutsumi 외 5명

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2016 .02