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바이어스-온도 스트레스를 이용한 SiNx/SiO₂ 절연막의 특성 평가
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .08
고밀도 플라즈마 소스를 적용한 고효율 스퍼터링 공정 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
게이트 절연막 SiNx와 SiO2에 따른 솔루션 기반 ITZO TFTs의 전기적 특성 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .08
고밀도 플라즈마 산화물 에칭 - 현황 및 전망
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
플렉서블 디스플레이에의 적용을 위한 저온 게이트 절연막에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
용액 공정을 이용한 High-k 게이트 절연막을 갖는 고성능 InGaZnO Thin Film Transistors의 전기적 특성 평가
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
InSb 적외선 감지 소자용 Si₃N₄, SiO₂ 절연막 계면 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
저온 증착된 게이트 절연막의 안정성 향상을 위한 플라즈마 처리
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .08
반도체소자의 절연막응용을 위한 폴리이미드 박막의 제작과 특성
Applied Science and Convergence Technology
1999 .08
온도에 따른 SiO2, SiNX 게이트 절연막 ITZO 산화물 반도체 트랜지스터 전기적 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
고밀도 플라즈마 식각 공정시 형성된 실리콘 표면의 오염 및 손상 제거에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
고밀도 플라즈마를 사용한 Si - Poly/CI₂ Etching
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
화학ㆍ기계적 연마를 이용한 다층배선 공정에서의 절연막 평탄화
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
저에너지 Fluorine-based 중성빔 incorporation 공정을 이용한 Al₂O₃ gate 절연막 특성향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
450㎜ 웨이퍼 공정용 system의 기하적 구조에 따른 플라즈마 균일도 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
HfO₂와 AlO₃를 이용한 터널링 절연막의 전기적 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Tunnel barrier engineered 메모리 적용을 위한 터널링 절연막의 전기적 특성 및 계면 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
용액 공정 기반 ZrO2 절연막을 사용한 IGZO 박막 트랜지스터의 전기적 특성 향상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
SiO₂ 원자층 식각에서 인가 전력 공정 윈도우와 플라즈마 활성종 간 상관관계
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
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