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한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제2회 학술발표회논문개요집
발행연도
1992.2
수록면
59 - 60 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1992

CHF₃ / C₂F6 반응성이온 건식식각에 의해 형성되는 실리콘 표면변형의 회복에 관한 연구 (Ⅱ)
박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 1992.02 학술대회자료
CHF₃ / C₂F6 반응성이온 건식식각에 의해 형성되는 실리콘 표면의 잔류층 및 손상층에 관한 연구 (Ⅰ)
박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 1992.02 학술대회자료
$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의해 변형된 실리콘 표면의 열적 거동에 관한 연구
박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 5명 한국재료학회지 1992.01 학술저널

1991

$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 변형에 관한 연구
박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 4명 한국재료학회지 1991.01 학술저널

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CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구
황기웅 ,  이종덕 ,  김성철 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1986 .12
스퍼터링 증착 조건에 따른 금속 박막의 습식 식각율
허창우 한국정보통신학회논문지 2010 .06
CHF3/C2F6 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 오염 및 제거에 관한 연구 ( A Study on the Silicon surface and near-surface contamination by CHF3/C2F6 RIE and its removal with thermal treatment and O2 plasma exposure )
권광호 ,  박형호 ,  이수민 외 4명 전자공학회논문지-A 1993 .01

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